99.7% उन्नत एल्यूमिना सिरेमिक
उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना सिरेमिक (Al)2O3:>99.7%）
-एल्यूमिना वेफर पॉलिशिंग प्लेट / टर्न टेबल
एलसीडी निर्माण उपकरण के लिए उच्च शुद्धता वाला एल्यूमिना बेसबोर्ड (बड़े आकार का)
सामग्री:
उच्च शुद्धता वाला एल्यूमिनाAl2O3:>99.7%
आवेदन पत्र:
सेमीकंडक्टर, पेट्रोलियम, रसायन, फोटोवोल्टाइक, एलसीडी आदि उद्योगों में, यांत्रिक पुर्जों, इलेक्ट्रॉनिक पुर्जों, माइक्रोवेव इंडक्शन डिस्क, इन्सुलेशन पुर्जों के रूप में इनका उपयोग होता है। उदाहरण के लिए, सेमीकंडक्टर उपकरणों, वैक्यूम उपकरणों, लिक्विड क्रिस्टल निर्माण उपकरणों और अन्य घटकों के निर्माण में इनका उपयोग होता है। उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना सिरेमिक वेफर पॉलिशिंग प्लेट/टर्न टेबल का बड़ा आकार रासायनिक यांत्रिक पॉलिशिंग में सीएमपी का एक महत्वपूर्ण घटक है, साथ ही एलसीडी के लिए एल्यूमिना बेसबोर्ड भी।
विशेषताएँ:
उच्च शुद्धता वाला एल2O399.7% -99.9%
उच्च यांत्रिक शक्ति
उच्च घिसाव प्रतिरोध
उच्च विद्युत इन्सुलेशन
उच्च रासायनिक स्थायित्व
अच्छी ताप और संक्षारण प्रतिरोधक क्षमता
निर्माता का लाभ:
हमारे पास PIBM स्वतः ठोसकरण प्रणाली का स्वतंत्र बौद्धिक संपदा अधिकार है, और हम पेशेवर रूप से उच्च गुणवत्ता वाले उत्तम सिरेमिक घटकों का उत्पादन करते हैं।
यह नई तकनीक तैयारी प्रक्रिया में बड़े आकार के सिरेमिक वेट ब्लैंक की विकृति और दरार की समस्याओं को दूर करती है, और पारंपरिक तरीकों से तैयार किए गए बड़े आकार के सिरेमिक भागों के लिए उत्पाद प्रदर्शन को काफी हद तक अनुकूलित किया गया है।
केमशुन सिरेमिक्स द्वारा निर्मित एल्यूमिना सिरेमिक नीलमणि लैपिंग वेफर पॉलिशिंग, PIBM उत्पादन प्रक्रिया पर आधारित है। यह एक अंतरराष्ट्रीय स्तर पर उन्नत तकनीक है। PIBM तकनीक बड़े आकार के एल्यूमिना सिरेमिक्स में दरार और विरूपण की प्रमुख समस्या का सफलतापूर्वक समाधान करती है। PIBM तकनीक उत्तम सिरेमिक्स के क्षेत्र में नए आयाम खोलती है। हम न केवल उच्च गुणवत्ता वाली एल्यूमिना सिरेमिक वेफर पॉलिशिंग प्लेट का उत्पादन करते हैं, बल्कि एलसीडी निर्माण उपकरण, सेमीकंडक्टर डिलीवरी ट्रैक, वैक्यूम पार्ट्स, सामान्य यांत्रिक पार्ट्स और बुलेटप्रूफ सिरेमिक्स जैसे 1200x500x20 मिमी आकार के उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना सिरेमिक्स की अन्य श्रृंखलाओं का भी उत्पादन करते हैं।
उत्पाद का आकार और माप
1. एल्यूमिना वेफर पॉलिशिंग प्लेट / टर्न टेबल। डिस्क, रिंग का आकार 850 मिमी से कम, मोटाई 45 मिमी।
2. एलसीडी के लिए एल्यूमिना बेस बोर्ड, सपोर्ट रिसेप्टर/कैरियर प्लेट के रूप में। आकार: लंबा बोर्ड, लंबी बार, वर्गाकार बोर्ड, पतला बोर्ड, 1500*600 मिमी से कम आकार में, जैसे: 1200x500x20, 1400x900x30 आदि।
3. 1000 * 45 * 45 मिमी से नीचे की गाइड रेल।
4. खाली ट्यूब, सिलेंडर, इलेक्ट्रिक वैक्यूम ट्यूब आदि, जिनका आकार 300 ~ 600 × L500 मिमी से कम हो।
5. विभिन्न आकार के पुर्जों वाले अनुकूलित उत्पाद स्वीकार्य हैं।
मुख्य पैरामीटर : (रासायनिक / भौतिक):
| संपत्ति | वस्तु | इकाई | केमशुन 99.7% एल्युमिना सिरेमिक |
| सामान्य गुण | मुख्य घटक | वजन% | 99.7-99.9 |
| घनत्व | जीएम/सीसी | 3.94-3.97 | |
| रंग | - | हाथी दांत | |
| जल अवशोषण | % | 0 | |
| यांत्रिक विशेषताएं | फ्लेक्सुरल स्ट्रेंथ (MOR) 20 ℃ | एमपीए(psix10^3) | 440-550 |
| प्रत्यास्थता मापांक 20℃ | जीपीए (psix10^6) | 375 | |
| विकर्स कठोरता | जीपीए (किग्रा/मिमी2) आर45एन | >=17 | |
| झुकने की ताकत | जीपीए | 390 | |
| तन्यता सामर्थ्य 25℃ | MPa(psix10^3) | 248 | |
| फ्रैक्चर टफनेस (KI c) | एमपीए* एम^1/2 | 4-5 | |
| तापीय गुण | तापीय चालकता (20℃) | डब्ल्यू/एमके | 30 |
| तापीय प्रसार गुणांक (25-1000℃) | 1x 10^-6/℃ | 7.6 | |
| थर्मल शॉक प्रतिरोध | ℃(∆ Tc) | 200 | |
| अधिकतम उपयोग तापमान | ℃ | 1700 | |
| विद्युत गुण | परावैद्युत सामर्थ्य (1 मेगाहर्ट्ज) | एसी-केवी/मिमी (एसी वी/मिलीमीटर) | 8.7 |
| परावैद्युत स्थिरांक (1 मेगाहर्ट्ज) | 25℃ | 9.7 | |
| मात्रा प्रतिरोधकता | ओम-सेमी (25℃) | >10^14 | |
| ओम-सेमी (500℃) | 2×10^12 | ||
| ओम-सेमी (1000℃) | 2×10^7 |
मोल्डिंग प्रक्रिया सिरेमिक परिष्करण प्रक्रिया
गुणवत्ता आश्वासन:
प्रत्येक बैच के उत्पादों का निरीक्षण फैक्ट्री प्रयोगशाला और राष्ट्रीय निरीक्षण केंद्र में किया जाता है।
